Конкурентнi механiзми гiстерезису опору в графеновому каналi

Автор(и)

  • A. I. Kurchak V.E. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine
  • A. N. Morozovska Інститут фізики НАН України
  • M. V. Strikha V.E. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine

DOI:

https://doi.org/10.15407/ujpe58.05.0472

Ключові слова:

графен, механiзми гiстерезису, адсорбати, поверхневi диполi

Анотація

Побудовано модель для конкурентних механiзмiв гiстерезису залежностi опору графенового каналу на пiдкладцi рiзної природи вiд напруги на затворi: прямого (зумовленого наявнiстю на поверхнi й iнтерфейсi адсорбатiв з дипольним моментом) i оберненого (зумовленого захопленням носiїв з шару графену на локалiзованi стани на iнтерфейсi графен–пiдкладка). Обговорено можливiсть дискримiнацiї цих каналiв шляхом варiацiї швидкостi змiни напруги на затворi. Вiдзначено добру вiдповiднiсть передбачень теорiї з наявними в лiтературi експериментальними даними.

Посилання

<ol>
<li> K.S. Novoselov, A.K. Geim, S.V. Morozov et al., Science 306, 666 (2004).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1126/science.1102896">https://doi.org/10.1126/science.1102896</a></li>
<li> A.K. Geim, Science 324, 1530 (2009).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1126/science.1158877">https://doi.org/10.1126/science.1158877</a></li>
<li> M.V. Strikha. Sensor Electr. Microsyst. Technol. 3, N 9, 5 (2012).</li>
<li> Y. Zheng, G.-X. Ni, Z.-T. Toh et al., Appl. Phys. Lett. 94, 163505 (2009).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1063/1.3119215">https://doi.org/10.1063/1.3119215</a></li>
<li> Y. Zheng, G.-X. Ni, Z.-T. Toh et al., Phys. Rev. Lett. 105, 166602 (2010).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.105.166602">https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.105.166602</a></li>
<li> S. Raghavan, I. Stolichnov, N. Setter et al., Appl. Phys. Lett. 100, 023507 (2012).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1063/1.3676055">https://doi.org/10.1063/1.3676055</a></li>
<li> J. Rouquette, J. Haines, V. Bornand et al., Phys. Rev. B 70, 014108 (2004).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1103/PhysRevB.70.014108">https://doi.org/10.1103/PhysRevB.70.014108</a></li>
<li> X. Hong, J. Hoffman, A. Posadas et al., Appl. Phys. Lett. 97, 033114 (2010).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1063/1.3467450">https://doi.org/10.1063/1.3467450</a></li>
<li> Y. Zheng, G.-X. Ni, S. Bae et al., Europhys. Lett. 93, 17002 (2011).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1209/0295-5075/93/17002">https://doi.org/10.1209/0295-5075/93/17002</a></li>
<li> E.B. Song, B. Lian, S.M. Kim et al., Appl. Phys. Lett. 99, 042109 (2011).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1063/1.3619816">https://doi.org/10.1063/1.3619816</a></li>
<li> M.V. Strikha, Ukr. J. Phys. Opt. 12, 162 (2011).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.3116/16091833/12/4/161/2011">https://doi.org/10.3116/16091833/12/4/161/2011</a></li>
<li> M.V. Strikha, JETP Lett. 95, 198 (2012).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1134/S002136401204008X">https://doi.org/10.1134/S002136401204008X</a></li>
<li> A.I. Kurchak and M.V. Strikha, JETP 116, 112 (2013).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1134/S106377611301007X">https://doi.org/10.1134/S106377611301007X</a></li>
<li> N. Lafkioti, B. Krauss, T. Lohmann et al., Nano Lett. 10, 1149 (2010).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1021/nl903162a">https://doi.org/10.1021/nl903162a</a></li>
<li> H.Wang, Y.Wu, C. Cong et al., ACS Nano 4, 7221 (2010).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1021/nn101950n">https://doi.org/10.1021/nn101950n</a></li>
<li> S.S. Sabri, P.L. Levesque, C.M. Aguirre et al., Appl. Phys. Lett. 95, 242104 (2009).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1063/1.3273396">https://doi.org/10.1063/1.3273396</a></li>
<li> P.L. Levesque, S.S. Sabri, C.M. Aguirre et al., Nano Lett. 11, 132 (2011).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1021/nl103015w">https://doi.org/10.1021/nl103015w</a></li>
<li> A. Veligura, in Zernike Institute PhD thesis series 2012-24 (2012), p. 53.</li>
<li> S. Das Sarma, Sh. Adam, E.H. Hwang, and E. Rossi, Rev. Mod. Phys. 83, 407 (2011).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1103/RevModPhys.83.407">https://doi.org/10.1103/RevModPhys.83.407</a></li>
<li> Ju. Li, X. Xiao, F. Yang, M.W. Verbrugge, and Y.-T. Cheng, J. Phys. Chem. C 116, 1472 (2012).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1021/jp207919q">https://doi.org/10.1021/jp207919q</a></li>
<li> S.V. Kalinin and A.N. Morozovska, submitted to J. Electroceram.</li>
<li> S.H. Glarum, J. Chem. Phys. 33, 1371 (1960).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1063/1.1731414">https://doi.org/10.1063/1.1731414</a></li>
<li> A. Veligura, P.J. Zomer, I.J. Vera-Marun et al., J. Appl. Phys. 110, 113708 (2011).&nbsp;<a href="https://doi.org/10.1063/1.3665196">https://doi.org/10.1063/1.3665196</a></li>
</ol>

Опубліковано

2018-10-06

Як цитувати

Kurchak, A. I., Morozovska, A. N., & Strikha, M. V. (2018). Конкурентнi механiзми гiстерезису опору в графеновому каналi. Український фізичний журнал, 58(5), 472. https://doi.org/10.15407/ujpe58.05.0472

Номер

Розділ

Тверде тіло

Статті цього автора (авторів), які найбільше читають

1 2 > >>