Взаємодiя кисню та гадолiнiю з Si(100)-2 × 1. Утворення системи з роботою виходу 1 еВ
DOI:
https://doi.org/10.15407/ujpe60.02.0097Ключові слова:
адсорбцiя, Gd, O, Si(100)-2×1, окислення, робота виходу, дипольний шарАнотація
Методами електронної спектроскопiї дослiджено змiну електронних властивостей поверхнi Si(100) при створеннi на нiй багатошарової структури окислених атомiв Gd. Показано, що внаслiдок ряду циклiв адсорбцiї атомiв Gd та атомарного кисню при кiмнатнiй температурi на поверхню Si(100)-2×1 та вiдпалу отриманої структури при ≈ 600 ∘C робота виходу поверхнi зменшується вiд 4,8 еВ до значень, менших вiд 1 еВ. Встановлено, що зменшення роботи виходу зi збiльшенням циклiв обробки супроводжується окисленням атомiв Gd та Si i поступовим зменшенням концентрацiї Si в приповерхневiй областi. Отриманi результати пояснюються утворенням на поверхнi дипольного шару O–Gd.
Посилання
H.D.B. Gottlob, A. Stefani, and M. Schmidt, J. Vac. Sci. Technol. B 27, 258 (2009). https://doi.org/10.1116/1.3025904
J.L. McChesney, A. Kirakosian, R. Bennewitz, J.N. Crain, J.-L. Lin, and F.J. Himpsel, Nanotechn. 13, 545, (2002). https://doi.org/10.1088/0957-4484/13/4/319
J.H.G. Owen, K. Miki, and D.R. Bowler, J. Mater. Sci. 41, 4568 (2006). https://doi.org/10.1007/s10853-006-0246-x
D. Lee, D.K. Lim, S.-S. Bae, S. Kim, R. Ragan, D.A. Ohlberg, Y. Chen, R. Stanley Williams, Appl. Phys. A 80, 1311 (2005). https://doi.org/10.1007/s00339-004-3158-0
E. Morris, J.W. Dikinson, M.L. Willis, and A.A. Baski, in Clusters and Nano-Assemblies. Physical and Biological Systems, edited by P. Jena, S.N. Khanna, and B. K. Rao (World Scientific, Singapore, 2003), p. 175.
H. Zhang, Q. Zhang, G. Zhao, J. Tang, O. Zhou, and L.- C. Qin, Chem. Soc. Comm. 127, 13120 (2005). https://doi.org/10.1021/ja054251p
K. Wandelt and C.R. Brundle, Surf. Sci. 157, 162 (1985). https://doi.org/10.1016/0039-6028(85)90641-7
G. Molnar, G. Peto, and E. Kotai, Vacuum 41, 1640 (1990). https://doi.org/10.1016/0042-207X(90)94041-N
W.A. Henle, M.G. Ramsey, and F.P. Netzer, Vacuum 41, 814 (1990). https://doi.org/10.1016/0042-207X(90)93792-H
W.A. Henle, M.G. Ramsey, F.P. Netzer, R. Cimino, W. Braun, and S. Witzel, Phys. Rev. B 42, 11073 (1990). https://doi.org/10.1103/PhysRevB.42.11073
R. Hofmann and F.P. Netzer, Phys. Rev. B 43, 9720 (1991). https://doi.org/10.1103/PhysRevB.43.9720
W.A. Henle, M.G. Ramsey, F.P. Netzer, R. Cimino, S. Witzel, and W. Braun, Surf. Sci. 243, 141 (1991). https://doi.org/10.1016/0039-6028(91)90353-T
F.P. Netzer, J. Phys.: Condens. Matter 7, 991 (1995). https://doi.org/10.1088/0953-8984/7/6/006
R. Hofmann, W.A. Henle, H. Ofner, M.C. Ramsey, F.P. Netzer, W. Braun, and K. Horn, Phys. Rev. B 47, 10407 (1993). https://doi.org/10.1103/PhysRevB.47.10407
L. Ming, L. Grill, M.G. Ramsey, F.P. Netzer, and J.A.D. Matthew, Surf. Sci. 375, 24 (1997). https://doi.org/10.1016/S0039-6028(96)01247-2
M. Sancrotti, A. Iandelli, G.L. Olcese, and A. Palenzona, Phys. Rev. B 44, 3328 (1991). https://doi.org/10.1103/PhysRevB.44.3328
A.M. Shikin, A.Yu. Grigoriev, G.V. Prudnikova, D.V. Vyalykh, S.L. Molodtsov, and V.K. Adamchuk, Fiz. Tverd. Tela 4, 942 (2000).
J.C. Chen, G.H. Shen, and L.J. Chen, Appl. Surf. Sci. 142, 291 (1999). https://doi.org/10.1016/S0169-4332(98)00639-4
K.B. Chung, Y.K. Choi, M.H. Jang, M. Noh, C.N. Whang, H.K. Jang, and E.J. Jung, J. Vac. Sci. Technol. B 23, 153 (2005). https://doi.org/10.1116/1.1849222
G.L. Molnar, G. Peto, E. Zsoldos, N.Q. Khunh, and Z.E. Hovath, Thin Solid Films 317, 417 (1998). https://doi.org/10.1016/S0040-6090(97)00634-2
B.C. Min, K. Motohashi, C. Lodder, and R. Jansen, Nature Mater. 5, 817 (2006). https://doi.org/10.1038/nmat1736
S. Sugahara, IEE Proc. Circuit Devices Syst. 152, 355 (2005). https://doi.org/10.1049/ip-cds:20045196
A.V. Zenkevich, Yu.U. Matveyev, Yu.Yu. Lebedinskii, R. Mantovan, M. Fanciulli et al., J. Appl. Phys. 111, 506 (2012). https://doi.org/10.1063/1.3672398
M.G. Nakhodkin and M.I. Fedorchenko, Visn. Kyiv. Univ. Ser. Fiz. Mat. Nauky 4, 261 (2012).
M.G. Nakhodkin, and M.I. Fedorchenko, Visn. Kyiv. Univ. Ser. Fiz. Mat. Nauky 1, 373 (2014).
M.G. Nakhodkin and M.I. Fedorchenko, Visn. Kyiv. Univ. Ser. Fiz. Mat. Nauky 3, 323 (2012).
L.E. Davis, N.C. MacDonald, P.W. Palmberg, G.E. Piach, and R.E. Weber, Handbook of Auger Electron Spectroscopy (Physical Electronic Industries, Eden Prairie, Minnesota, 1976).
C.Y. Su, W.E. Spicer, and I. Lindau, J. Appl. Phys. 54, 1413 (1983). https://doi.org/10.1063/1.332166
G. Park, V. Choong, G. Gao, B.R. Hsieh, and C.W. Tang, Appl. Phys. Lett. 68, 2699 (1996). https://doi.org/10.1063/1.116313
Завантаження
Опубліковано
Номер
Розділ
Ліцензія
Ліцензійний Договір
на використання Твору
м. Київ, Україна
Відповідальний автор та співавтори (надалі іменовані як Автор(и)) статті, яку він (вони) подають до Українського фізичного журналу, (надалі іменована як Твір) з одного боку та Інститут теоретичної фізики імені М.М. Боголюбова НАН України в особі директора (надалі – Видавець) з іншого боку уклали даний Договір про таке:
1. Предмет договору.
Автор(и) надає(ють) Видавцю безоплатно невиключні права на використання Твору (наукового, технічного або іншого характеру) на умовах, визначених цим Договором.
2. Способи використання Твору.
2.1. Автор(и) надає(ють) Видавцю право на використання Твору таким чином:
2.1.1. Використовувати Твір шляхом його видання в Українському фізичному журналі (далі – Видання) мовою оригіналу та в перекладі на англійську (погоджений Автором(ами) і Видавцем примірник Твору, прийнятого до друку, є невід’ємною частиною Ліцензійного договору).
2.1.2. Переробляти, адаптувати або іншим чином змінювати Твір за погодженням з Автором(ами).
2.1.3. Перекладати Твір у випадку, коли Твір викладений іншою мовою, ніж мова, якою передбачена публікація у Виданні.
2.2. Якщо Автор(и) виявить(лять) бажання використовувати Твір в інший спосіб, як то публікувати перекладену версію Твору (окрім випадку, зазначеного в п. 2.1.3 цього Договору); розміщувати повністю або частково в мережі Інтернет; публікувати Твір в інших, у тому числі іноземних, виданнях; включати Твір як складову частину інших збірників, антологій, енциклопедій тощо, то Автор(и) мають отримати на це письмовий дозвіл від Видавця.
3. Територія використання.
Автор(и) надає(ють) Видавцю право на використання Твору способами, зазначеними у п.п. 2.1.1–2.1.3 цього Договору, на території України, а також право на розповсюдження Твору як невід’ємної складової частини Видання на території України та інших країн шляхом передплати, продажу та безоплатної передачі третій стороні.
4. Строк, на який надаються права.
4.1. Договір є чинним з дати підписання та діє протягом усього часу функціонування Видання.
5. Застереження.
5.1. Автор(и) заявляє(ють), що:
– він/вона є автором (співавтором) Твору;
– авторські права на даний Твір не передані іншій стороні;
– даний Твір не був раніше опублікований і не буде опублікований у будь-якому іншому виданні до публікації його Видавцем (див. також п. 2.2);
– Автор(и) не порушив(ли) права інтелектуальної власності інших осіб. Якщо у Творі наведені матеріали інших осіб за виключенням випадків цитування в обсязі, виправданому науковим, інформаційним або критичним характером Твору, використання таких матеріалів здійснене Автором(ами) з дотриманням норм міжнародного законодавства і законодавства України.
6. Реквізити і підписи сторін.
Видавець: Інститут теоретичної фізики імені М.М. Боголюбова НАН України.
Адреса: м. Київ, вул. Метрологічна 14-б.
Автор: Електронний підпис від імені та за погодження всіх співавторів.
.png){kind=small}
