Структури і профілі тонких KY3F10:Ho3+ плівок, нанесених імпульсним лазерним впливом

Pulsed laser deposition of thin films

Автор(и)

  • N. Gemechu Jimma University, Department of Physics
  • T. Abebe Jimma University, Department of Physics

DOI:

https://doi.org/10.15407/ujpe63.2.182

Ключові слова:

Thickness profile, gas dynamic equations, plasma plume

Анотація

Тонкi KY3F10 :Ho3+ плiвки виготовленi методом iмпульсного лазерного напилення iз застосуванням Nd-YAG лазера (266 нм, тривалiсть iмпульсу 10 нс, частота повторення 2 Гц) на 1 см × 1 см пiдкладку з кремнiю в вакуумi для рiзних вiдстаней мiж мiшенню i пiдкладкою. Рентгенiвськi дослiдження показали, що плiвки кристалiзуються в тетрагональну полiкристалiчну фазу KY3F10 (вiдповiдно до кар-ти № 27-0465 Комiтету з дифракцiйних стандартiв). Наведено результати розрахункiв профiлiв з урахуванням деяких експериментальних параметрiв напилення. У припущеннi елiпсоїдального поширення струменя плазми, профiль товщини плiвки оцiнений рiшенням газодинамiчних рiвнянь у разi адiабатичного поширення струменя плазми у вакуумi. Результати дають переважний напрямок пучка вперед, що добре узгоджуються з експериментом. Теорiя i експеримент показують зменшення товщини плiвки при збiльшеннi вiдстанi мiж мiшенню i пiдкладкою, що вiдповiдає зменшенню швидкостi напилення. Товщина плiвки також зменшується для вiдносно великих радiальних кутiв щодо нормалi до пiдкладки.

Завантаження

Опубліковано

2018-03-02

Номер

Розділ

Структура речовини

Як цитувати

Статті цього автора (цих авторів), які найбільше читають