Дослiдження структури i оптичних властивостей NiO нанолусочок. вирощування тонких плiвок Ni(OH)2 методом хiмiчного осадження

Анотація

Методом хiмiчного осадження вирощенi пористi нанолусочки окису нiкелю NiO. На пiдкладцi оксид iндiю-олова/скло отриманi тонкi плiвки i пiдданi вiдпалу при змiннiй температурi в печi. Вивчено та проаналiзовано їх структуру, оптичнi властивостi i морфологiю поверхнi. Методом емiсiйної растрової електронної мiкроскопiї показано присутнiсть нанолусочок у структурi NiO/Ni(OH)2 тонких плiвок. Розмiри нанолусочок збiльшуються з ростом температури вiдпалу. Знайдено, що найбiльшу площу поверхнi має зразок, вирощений при 300 ∘C. Результати енергодисперсiйної спектроскопiї показують нестехiометрiю атомного вiдношення зразка, що вiдповiдає p-типу NiO тонкої плiвки. Методом атомної силової спектроскопiї знайдено, що зразок, вирощений при 300 ∘C, має найбiльшу шорсткiсть (47,9 нм). Рентгеноструктурний аналiз показує, що NiO нанолусочки мають кубiчну структуру з пiками орiєнтацiї (111), (200), i (220). Це особливо чiтко проявляється при 300 ∘C. Рентгеноструктурний аналiз також показує вiдсутнiсть Ni(OH)2 пiка при вiдпалi. Вимiрювання в ультрафiолетi i видимому свiтлi дають малу ширину забороненої зони 3,80 еВ для 300 ∘C через високу кристалiчнiсть. Ця температура оптимальна для синтезу NiO нанолусочок високої якостi, що важливо для їх застосування в сенсорах.