Вплив високотемпературного вiдпалу на структуру та край власного поглинання тонкоплiвкового кремнiю, легованого оловом

Автор(и)

  • R. M. Rudenko Taras Shevchenko National University of Kyiv, Faculty of Physics
  • V. V. Voitovych Institute of Physics, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine
  • M. M. Kras’ko Institute of Physics, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine
  • A. G. Kolosyuk Institute of Physics, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine
  • A. M. Kraichynskyi Institute of Physics, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine
  • V. O. Yukhymchuk V.E. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine
  • V. A. Makara Taras Shevchenko National University of Kyiv, Faculty of Physics

DOI:

https://doi.org/10.15407/ujpe58.08.0769

Ключові слова:

тонкоплiвковий кремнiй, легування оловом, кристалiзацiя, оптична заборонена зона, iзохронний вiдпал

Анотація

Дослiджено вплив iзохронного вiдпалу в дiапазонi 350–1100 oС на структурнi властивостi та край власного поглинання тонких плiвок кремнiю, легованих оловом (a-SiSn). Отримано, що у структурi a-SiSn (олова ~4 ат. %), на вiдмiну вiд нелегованого a-Si, зразу пiсля осадження присутнi нанокристали кремнiю (розмiр кристалiтiв ~4 нм, частка кристалiчної фази ~65%). Показано, що iзохронний вiдпал a-SiSn в дiапазонi 350–1100 oС поступово збiльшує розмiри нанокристалiв кремнiю в аморфнiй матрицi до ~7 нм, а частку кристалiчної фази до ~100%. Кристалiзацiя нелегованого оловом a-Si починається лише при температурах вiдпалу бiльше 700 oС. Проаналiзовано вплив олова на оптичну ширину забороненої зони a-Si залежно вiд температури iзохронного вiдпалу.

Завантаження

Опубліковано

2018-10-10

Номер

Розділ

Тверде тіло

Як цитувати

Вплив високотемпературного вiдпалу на структуру та край власного поглинання тонкоплiвкового кремнiю, легованого оловом. (2018). Український фізичний журнал, 58(8), 769. https://doi.org/10.15407/ujpe58.08.0769

Статті цього автора (цих авторів), які найбільше читають

<< < 1 2