Вплив домiшок з глибокими рiвнями на тензоелектричнi властивостi монокристалiчного кремнiю

Автор(и)

  • S. Zainabidinov Andijan State University
  • O. O. Mamatkarimov Namangan Engineering and Technology Institute
  • O. Khimmatkulov Tashkent State Technical University
  • I. G. Tursunov National University of Uzbekistan

DOI:

https://doi.org/10.15407/ujpe62.11.0957

Ключові слова:

deformation, impurities, strain resistance, elastic compression

Анотація

Ефект п’єзорезистентностi дослiджено в компенсованих та термiчно оброблених зразках Si : Zn i Si : Zn, Mn при одновiсному пружному стискуваннi. Показано, що цей ефект зумовлений змiнами концентрацiї та рухливостi носiїв струму. Аномальнi змiни рухливостi носiїв при стиску навколо кристалографiчної осi [111] пов’язанi зi змiною їх розсiювання на великомасштабних утвореннях дефектiв.

Посилання

A.L. Polyakova. Deformation of semiconductors and semiconductor devices [in Russian], (Energiya, 1979).

M.K. Bakhadyrkhanov, A.A. Tursunov, A. Abduraimov, et al. Izv. Acad. of Sci. of Uzbekistan, Ser. Fiz. 2, 53 (1988).

G.L. Bir, G.E. Pikus. Symmetry and Strain-Induced Effects in Semiconductors (Wiley, 1974).

M.G. Milvidsky, V.V. Chaldyshev. Nanometer-size atomic clusters in semiconductors – a new approach to tailoring material properties. Phys. and Technol. of Semicond. 32 (5), 457 (1998).

https://doi.org/10.1134/1.1187418

Завантаження

Опубліковано

2018-12-12

Номер

Розділ

Тверде тіло

Статті цього автора (цих авторів), які найбільше читають