Емiсiйнi властивостi аргонового плазмового струменя атмосферного тиску зi збудженням бар’єрним розрядом
DOI:
https://doi.org/10.15407/ujpe60.12.1189Ключові слова:
плазмовий струмiнь, бар’єрний розряд, спектр випромiнювання, просторовий розподiл випромiнюванняАнотація
Отримано плазмовий струмiнь аргону в атмосферi шляхом збудження бар’єрного розряду в капiлярнiй трубцi, крiзь яку продувався iнертний газ аргон. Детально дослiджено спектральний склад випромiнювання аргонового плазмового струменя в атмосферi, а також просторово-спектральний розподiл iнтенсивностi його випромiнювання. Показано, що спектральний склад випромiнювання сформованого плазмового струменю представлений переважно спектральними переходами атомiв аргону, кисню, а також електронно-коливними переходами першої позитивної системи молекул азоту N2(C3Πu→B3Πg) та переходами радикалу гiдроксилу OH(A2Σ+→X2Π).
Посилання
Kangil Kim, Geunyoung Kim, Yong Cheol Hong, and Sang Sik Yang, Microelectr. Eng. 87, 1177 (2010). https://doi.org/10.1016/j.mee.2009.12.045
M. Wolte, S. Bornholdt, M. H¨ackel, and H. Kersten, J. Achiev. Mater. Manufact. Eng. 37, 730 (2009).
R. Foest, E. Kindel, A, Ohl, M. Stieber, and K.-D. Weltmann, Plasma Phys. Contr. Fus. 47, B525 (2005). https://doi.org/10.1088/0741-3335/47/12B/S38
A. Lehmann, A. Rueppell, A. Schindler, I.-M. Zylla, H.J. Seifert, F. Nothdurft, M. Hannig, and S. Rupf, Plasma Proc. Polym. 10, 262 (2013). https://doi.org/10.1002/ppap.201200088
A.C. Ritts, C.H. Liu, and Q.S. Yu, Thin Solid Films 519, 4824 (2011). https://doi.org/10.1016/j.tsf.2011.01.037
L. Marcinauskas, M. Silinskas, and A. Grigonis, Appl. Surf. Sci. 257, 2694 (2011). https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2010.10.047
Y. Hiroyuki, Rev. Sci. Instrum. 78, 043510 (2007). https://doi.org/10.1063/1.2727488
Li Haijiang, Wang Shouguo, Zhao Lingl, and Ye Tianchun, Plasma Sci. Technol. 6, 2481 (2004). https://doi.org/10.1088/1009-0630/6/4/007
M. Thiyagarajan, A. Sarani, and X. Gonzales, J. Appl. Phys. 113, 093302 (2013). https://doi.org/10.1063/1.4794333
Ye Tian, Peng Sun, Haiyan Wu, Na Bai, Ruixue Wang, Weidong Zhu, Jue Zhang, and Fuxiang Liu, J. Biomed. Res. 24, 264 (2010). https://doi.org/10.1016/S1674-8301(10)60037-1
Jae Koo Lee, Myoung Soo Kim, June Ho Byun, Kyong Tai Kim, Gyoo Cheon Kim, and Gan Young Park, Jpn. J. Appl. Phys. 50, 08JF01 (2011). https://doi.org/10.7567/JJAP.50.08JF01
J. Heinlin, G. Morfill, M. Landthaler, W. Stolz, G. Isbary, J.L. Zimmermann, T. Shimizu, and S. Karrer, J. Germany Soc. Dermatol. 8, 1 (2010).
M. Laroussi, M.G. Kong, G. Morfill, and W. Stolz, Plasma Medicine: Applications of Low-Temperature Gas Plasmas in Medicine and Biology (Cambridge Univ. Press, Cambridge, 2012). https://doi.org/10.1017/CBO9780511902598
J. Raiser and M. Zenker, J. Phys. D 39, 3520 (2006). https://doi.org/10.1088/0022-3727/39/16/S10
Jae-Hoon Kim, Mi-Ae Lee, Geum-Jun Han, and ByeongHoon Cho, Acta Odontol. Scand. 72, 1 (2013).
Gyoo Cheon Kim, Hyun Wook Lee, June Ho Byun, Jin Chung, Young Chan Jeon, and Jae Koo Lee, Plasma Proc. Polym. 10, 199 (2013).
Hyun Woo Lee, Seoul Hee Nam, A.-A.H. Mohamed, Gyoo Cheon Kim, and Jae Koo Lee, Plasma Proc. Polym. 7, 274 (2010). https://doi.org/10.1002/ppap.200900083
S. Lerouge, M.R. Wertheimer, and L'H.Yahia, Plasmas Polym. 6, 175 (2001). https://doi.org/10.1023/A:1013196629791
M. Moisan, J. Barbeau, M.-Ch. Crevier, J. Pelletier, N. Philip, and B. Saoudi, Pure Appl. Chem. 74, 349 (2002). https://doi.org/10.1351/pac200274030349
Xiaoqing Dong, A.C. Ritts, C. Staller, Qingsong Yu, Meng Chen, and Yong Wang, Eur. J. Oral Sci. 121, 355 (2013). https://doi.org/10.1111/eos.12052
A.C. Ritts, Hao Li, Qingsong Yu, Changqi Xu, Xiaomei Yao, Liang Hong, and Yong Wang, Eur. J. Oral Sci. 118, 510 ( 010). https://doi.org/10.1111/j.1600-0722.2010.00761.x
H.W. Herrmann, I. Henins, J. Park and G.S. Selwyn, Phys. Plasmas 6, 2284 (1999). https://doi.org/10.1063/1.873480
M. Moravej, X. Yang, G.R. Nowling, J.P. Chang, R.F. Hicks, and S.E. Babayan, J. Appl. Phys. 96, 7011 (2004). https://doi.org/10.1063/1.1815047
Li Shou-Zhe, J.P. Lim, J.G. Kang, and H.S. Uhm, Phys. Plasmas 13, 093503 (2006). https://doi.org/10.1063/1.2355428
S. Wang, V. Schultz von der Gathen, and H.F. Dubele, Appl. Phys. Lett. 83, 3272 (2003). https://doi.org/10.1063/1.1615674
I.A. Soloshenko, V.V. Tsiolko, S.S. Pogulay, A.G. Terentyeva, V.Yu. Bazhenov, A.I. Shchedrin, A.V. Ryabtsev, and A.I. Kuzmichev, Plasma Sourc. Sci. Technol. 16, 56 (2007). https://doi.org/10.1088/0963-0252/16/1/008
I.A. Soloshenko, V.V. Tsiolko, S.S. Pogulay, A.G. Kalyuzhnaya, V.Yu. Bazhenov, and A.I. Shchedrin, Plasma Sourc. Sci. Technol. 18, 1 (2009). https://doi.org/10.1088/0963-0252/18/4/045019
V.A. Khomich, A.V. Ryabtsev, E.G. Didyk, V.A. Zhovtyanskii, and V.G. Nazarenko, Pis'ma Zh. Tekhn. Fiz. 36, 91 (2010).
V.A. Zhovtyanskii and O.V. Anisimova, Ukr. Fiz. Zh. 59, 1155 (2014).
A.A. Radtsig and B.M. Smirnov, Handbook on Atomic and Molecular Physics (Atomizdat, Moscow, 1980) (in Russian).
http://physics.nist.gov/cgi-bin/ASD/lines1.pl.
R.R. Laher and F.R. Gilmore, J. Phys. Chem. Ref. Data 20, 685 (1991). https://doi.org/10.1063/1.555892
K.P. Huber and G. Herzberg, Molecular Spectra and Molecular Structure IV: Constants of Diatomic Molecules (Van Nostrand, New York, 1979). https://doi.org/10.1007/978-1-4757-0961-2
Y. Itikawa,and N. Mason, J. Phys. Chem. Ref. Data 34, 1 (2005). https://doi.org/10.1063/1.1799251
A.M. Korbut, V.A. Kelman, Yu.V. Zhmenyak, and M.S. Klenovskii, Opt. Spektrosk. 116, 995 (2014). https://doi.org/10.1134/S0030400X14040146
A.A. Radtsig and B.M. Smirnov, Reference Data on Atoms, Molecules, and Ions (Springer, Berlin, 1986).
Jianun Shi, Fangchun Zhong, Jing Zhang, D.W. Liu, and M.G. Kong, Phys. Plasmas 15, 013504 (2008). https://doi.org/10.1063/1.2828551
Завантаження
Опубліковано
Номер
Розділ
Ліцензія
Ліцензійний Договір
на використання Твору
м. Київ, Україна
Відповідальний автор та співавтори (надалі іменовані як Автор(и)) статті, яку він (вони) подають до Українського фізичного журналу, (надалі іменована як Твір) з одного боку та Інститут теоретичної фізики імені М.М. Боголюбова НАН України в особі директора (надалі – Видавець) з іншого боку уклали даний Договір про таке:
1. Предмет договору.
Автор(и) надає(ють) Видавцю безоплатно невиключні права на використання Твору (наукового, технічного або іншого характеру) на умовах, визначених цим Договором.
2. Способи використання Твору.
2.1. Автор(и) надає(ють) Видавцю право на використання Твору таким чином:
2.1.1. Використовувати Твір шляхом його видання в Українському фізичному журналі (далі – Видання) мовою оригіналу та в перекладі на англійську (погоджений Автором(ами) і Видавцем примірник Твору, прийнятого до друку, є невід’ємною частиною Ліцензійного договору).
2.1.2. Переробляти, адаптувати або іншим чином змінювати Твір за погодженням з Автором(ами).
2.1.3. Перекладати Твір у випадку, коли Твір викладений іншою мовою, ніж мова, якою передбачена публікація у Виданні.
2.2. Якщо Автор(и) виявить(лять) бажання використовувати Твір в інший спосіб, як то публікувати перекладену версію Твору (окрім випадку, зазначеного в п. 2.1.3 цього Договору); розміщувати повністю або частково в мережі Інтернет; публікувати Твір в інших, у тому числі іноземних, виданнях; включати Твір як складову частину інших збірників, антологій, енциклопедій тощо, то Автор(и) мають отримати на це письмовий дозвіл від Видавця.
3. Територія використання.
Автор(и) надає(ють) Видавцю право на використання Твору способами, зазначеними у п.п. 2.1.1–2.1.3 цього Договору, на території України, а також право на розповсюдження Твору як невід’ємної складової частини Видання на території України та інших країн шляхом передплати, продажу та безоплатної передачі третій стороні.
4. Строк, на який надаються права.
4.1. Договір є чинним з дати підписання та діє протягом усього часу функціонування Видання.
5. Застереження.
5.1. Автор(и) заявляє(ють), що:
– він/вона є автором (співавтором) Твору;
– авторські права на даний Твір не передані іншій стороні;
– даний Твір не був раніше опублікований і не буде опублікований у будь-якому іншому виданні до публікації його Видавцем (див. також п. 2.2);
– Автор(и) не порушив(ли) права інтелектуальної власності інших осіб. Якщо у Творі наведені матеріали інших осіб за виключенням випадків цитування в обсязі, виправданому науковим, інформаційним або критичним характером Твору, використання таких матеріалів здійснене Автором(ами) з дотриманням норм міжнародного законодавства і законодавства України.
6. Реквізити і підписи сторін.
Видавець: Інститут теоретичної фізики імені М.М. Боголюбова НАН України.
Адреса: м. Київ, вул. Метрологічна 14-б.
Автор: Електронний підпис від імені та за погодження всіх співавторів.
.png){kind=small}
