Особливостi формування рекомбiнацiйного струму в областi просторового заряду кремнiєвих сонячних елементiв

Автор(и)

  • A. V. Sachenko V.E. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine
  • V. P. Kostylyov V.E. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine
  • V. M. Vlasiuk V.E. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine
  • R. M. Korkishko V.E. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine
  • I. O. Sokolovs’kyi V.E. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine
  • V. V. Chernenko V.E. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine

DOI:

https://doi.org/10.15407/ujpe61.10.0917

Ключові слова:

рекомбiнацiйний струм, область просторового заряду, кремнiєвi сонячнi елементи, глибокий рекомбiнацiйний рiвень

Анотація

Дослiджено темновi ВАХ кремнiєвих сонячних елементiв з рiзними часами життя Шоклi–Рiда–Холла, якi визначались з спектральних залежностей внутрiшнього квантового виходу струму короткого замикання. Встановлено, що рекомбiнацiйнi струми в областi просторового заряду (ОПЗ) формуються на основi часiв життя, менших, принаймнi на порядок, за об’ємнi часи життя. Це пояснено великою концентрацiєю дефектiв, якi приводять до появи глибоких рiвнiв, в ОПЗ дослiджуваних структур кремнiю. Оцiнено параметри глибоких рiвнiв, вiдповiдальних за рекомбiнацiю в ОПЗ.

Посилання

V.I. Lyashenko and G.A. Fedorus, Zh. Eksp. Teor. Fiz. 8, 818 (1938).

E.I. Rashba and K.B. Tolpygo, The direct voltage-current characteristic of a plane rectifier with large currents, Sov. Phys.–Tech. Phys. 1, 1388 (1956).

Z.S. Gribnikov, Radiotekhn. Elektron. 9, 163 (1964).

S.C.T. Sah, R.N. Noyse, and W. Shockley, Carrier-generation and recombination in P-N junctions and P-N characteristics, Proc. IRE 45, 1228 (1957).

E.F. Zalewski and C.R. Duda, Silicon photodiode device with 100% external quantum efficiency, Appl. Opt. 22, 2867 (1983) [DOI: 10.1364/AO.22.002867].

A. Rohas, A.R. Paucard, B. Besse et al., Low-noise silicon avalanche photodiodes fabricated in conventional CMOS technologies, IEEE Trans. El. Dev. 49, 387 (2002) [DOI: 10.1109/16.987107].

A.P. Gorban, V.P.Kostylyov, A.V. Sachenko, O.A. Serba, I.O. Sokolovs’kyi, and V.V. Chernenko, Effect of floating p-n junctions on the efficiency of silicon back side contact solar cells, Ukr. Fiz. Zh. 55, 784 (2010).

A.P. Gorban, V.P.Kostylyov, A.V. Sachenko, O.A. Serba, and V.V. Chernenko, Sensor. Elektron. Mikrosyst. Tekhnol. 1, No. 7, 27 (2010).

K. Bothe, R. Sinton, and J. Schmidt, Fundamental boron–oxygen-related carrier lifetime limit in mono- and multicrystalline silicon, Prog. Photovolt. 13, 287 (2005) [DOI: 10.1002/pip.586].

K. Bothe and J. Schmidt, Electronically activated boronoxygen-related recombination centers in crystalline silicon, Appl. Phys. 99, 013701 (2006) [DOI: 10.1063/1.2140584].

Завантаження

Опубліковано

2019-01-04

Номер

Розділ

Тверде тіло

Як цитувати

Статті цього автора (цих авторів), які найбільше читають