Структурні властивості InGaPN на GaAs (001), узгоджені за параметром ґратки

Автор(и)

  • P. Sritonwong Nanoscience and Technology, Graduate School, Chulalongkorn University
  • S. Sanorpim Nanoscience and Technology, Graduate School, Chulalongkorn University, Department of Physics, Faculty of Science, Chulalongkorn University
  • K. Onabe Department of Advanced Materials Science, The University of Tokyo

DOI:

https://doi.org/10.15407/ujpe63.3.276

Ключові слова:

InGaPN, RTA, HRXRD, MOVPE, Raman scattering

Анотація

Дослiджено властивостi структури InGaPN на GaAs (001), узгодженi за параметром ґратки, iз застосуванням рентгенiвської дифракцiї високої роздiльної здатностi (РДВРЗ), Раманiвської спектроскопiї (РС) i атомної силової мiкроскопiї (АСМ). Шари InGaPN були вирощенi методом епiтаксiї
металоорганiчних з’єднань з газової фази. При отриманнi InGaPN, узгодженого за параметром ґратки, на GaAs швидкостi потокiв трiметiлiндiя i трiметiлгалiя були, вiдповiдно, 14,7 та 8,6 мкмоль/хв. Змiст N було оптимiзовано при швидкостi потоку диметилгидразина (попередник N), що дорiвнює 300 мкмоль/хв. Комбiнуючи РДВРЗ i РС вимiрювання, змiст In i N оцiнено як 55,8 i 0,9 ат.%, вiдповiдно. Для всiх шарiв неузгодженiсть ґратки була менше 0,47%. Для полiпшення якостi ґратки InGaPN шарiв, застосований швидкий термiчний вiдпал (ШТВ) при температурi 650 ∘C, оптимальної для зростання GaAs буферного шару. Час вiдпалу змiнювався вiд 30 до 180 c для досягнення однорiдностi складу. Збiльшення часу вiдпалу до 120 c призвело до незначного зростання змiсту In i N. При цьому АСМ показала, що середньоквадратична шорсткiсть InGaPN поверхнi зменшилася. При збiльшеннi часу вiдпалу рiзко падає вмiст N без змiн у вмiстi In. Середньоквадратична шорсткiсть також зростає. ШТВ при 650 ∘C протягом 120 c значно полiпшив властивостi структури шарiв InGaPN на GaAs (001), узгоджених за параметром ґратки.

Завантаження

Опубліковано

2018-04-20

Номер

Розділ

Структура речовини

Статті цього автора (цих авторів), які найбільше читають