Афанас’єва, Т. et al. 2022. Дифузія атома кисню у приповерхневі шари інтерфейсу GexSi1-x/Si(001). Український фізичний журнал. 56, 4 (Лют 2022), 352. DOI:https://doi.org/10.15407/ujpe56.4.352.