Вплив обробки у парах HF на структуру та люмінесцентні властивості поруватих Si/SiОx нанокомпозитів

Автор(и)

  • В.А. Данько Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України
  • С.О. Злобін Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України
  • І.З. Індутний Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України
  • І.П. Лісовський Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України
  • В.Г. Литовченко Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України
  • К.В. Михайловська Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України
  • П.Є. Шепелявий Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України

DOI:

https://doi.org/10.15407/ujpe55.9.1038

Ключові слова:

-

Анотація

Методами IЧ-спектроскопiї та фотолюмiнесценцiї дослiджено вплив травлення парами HF оксидної матрицi поруватих нанокомпозитних Si/SiO

Посилання

D.I. Tetel’baum, O.N. Gorshkov, A.P. Kasatkin et al., Fiz. Tverd. Tela 47, 17 (2005).

M. Molinary, H. Rinnert, and H. Vergnat, Appl. Phys. Lett. 82, 3877 (2003).

V.Ya. Bratus’, V.A. Yukhimchuk, L.I. Berezhinskii et al., Fiz. Tekhn. Polupr. 35, 854 (2001).

D. Nesheva, C. Raptis, A. Perakis et al., J. Appl. Phys. 92, 4678 (2002).

J. Heitmann, F. M¨uller, M. Zacharias, and U. G¨osele, Adv. Mater 17, 795 (2005).

K. Sato, N. Kishimoto, K. Hirakuri, J. Appl. Phys. 102, 104305 (2007).

P.M. Fauchet, L. Tsybeskov, S.P. Duttagupta, and K.D. Hirschman, Thin Solid Films 297, 254 (1997).

K Sato and K. Hirakuri, J. Appl. Phys. 97, 104326 (2005).

I.Z. Indutnyi, K.V. Michailovska, and P.E. Shepeliavyi, Optoel. Polupr. Tekhn. 44, 74 (2009).

I.Z. Indutnyi, K.V. Michailovska, P.E. Shepeliavyi et al., Fiz. Tekhn. Polupr. 44, 218 (2010).

V.G. Litovchenko, V.P. Kovbasyuk, and G.V. Smirnov, Fiz. Tekhn. Polupr. 2, 1131 (1968).

V.A. Dan’ko, I.Z. Indutnyi, I.Yu. Maidanchuk et al., Optoel. Polupr. Tekhn. 39, 65 (2004).

I.Z. Indutnyi, K.V. Michailovska, V.I. Min‘ro et al., Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics 2, 105 (2009).

M. Nakamura, Y. Mochizuki, and K. Usami, Solid State Communications 50, 1079 (1984).

I.P. Lisovskii, V.G. Litovchenko, V.B. Lozinskii, and G.I. Steblovskii, Thin Solid Films 213, 164 (1992).

I.P. Lisovskij, V.G. Litovchenko, V.B. Lozinskij et al., J. Non-cryst. Solids 187, 91 (1995).

E.G. Parada, P. Gonzalez, J. Serra, B. Leon, M. Perez-Amor, M.F. da Silva, H. Wolters, and J.C. Soares, J. Non-Cryst. Solids 187, 75 (1995).

A. Sassella, A. Borghesi, F. Corni, A. Monelli, G. Ottaviani, R. Tonini, B. Pivac, M. Bacchetta, and L. Zanotti, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 377 (1997).

G. Suchaneck, O. Steinke, B. Alhallani, and K. Schade, J. Non-cryst. Solids 187, 86 (1995).

R.W. Liptak, U. Kortshagen, and S. A. Campbell, J. Appl. Phys. 106, 064313 (2009).

A. Lehmann, L. Schumann, and K. Hubner, Phys. stat. sol. (b), 117, 689 (1983)

T. Shimada, Y. Katayama, and S. Horigome, Jap. J. Appl. Phys. 19, L265 (1980).

V.F. Kiselev and O.V. Krylov, Electron Processes in Adsorption and Catalysis on Semiconductors and Dielectrics (Nauka, Moscow, 1970) (in Russian).

S.V. Svechnikov and E.B. Kaganovich, Optoel. Polupr. Tekhn. 39, 5 (2004).

G. Faraci, S. Gibilisco, A.R. Rennisi, G. Franzo, S. La Rosa, and L. Lozzi, Phys. Rev. B 78, 245425-1-6 (2008).

V.A. Dan’ko, V.Ya. Bratus’, I.Z. Indutnyi, I.P. Lisovskyy, S.O. Zlobin, K.V. Michailovska, and P.E. Shepeliavyi, Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics, 3, (2010) (in press).

##submission.downloads##

Опубліковано

2025-01-22

Як цитувати

Данько, В., Злобін, С., Індутний, І., Лісовський, І., Литовченко, В., Михайловська, К., & Шепелявий, П. (2025). Вплив обробки у парах HF на структуру та люмінесцентні властивості поруватих Si/SiОx нанокомпозитів. Український фізичний журнал, 55(9), 1038. https://doi.org/10.15407/ujpe55.9.1038

Номер

Розділ

Наносистеми

Статті цього автора (авторів), які найбільше читають