Кремнієві р-МОН та n-МОН транзистори з одновісно деформованими каналами у нанотехнології електронних приладів

Автор(и)

  • А.Є. Горін Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України
  • Г.В. Громова Київський національний університет імені Тараса Шевченка
  • В.М. Єрмаков Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України
  • П.П. Когутюк Київський національний університет імені Тараса Шевченка
  • В.В. Коломоєць Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України
  • П.Ф. Назарчук Волинський національний університет ім. Лесі Українки
  • Л.І. Панасюк Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України
  • С.А. Федосов Волинський національний університет ім. Лесі Українки

DOI:

https://doi.org/10.15407/ujpe56.9.917

Ключові слова:

-

Анотація

Розглянуто вплив одновісного тиску на рухливість носіїв струму у кристалах n-Si та p-Si, який використовується при виготовленні n-МОН та p-МОН транзисторів. Представлено залежності поздовжнього і поперечного тензорезистивних (ТР) ефектів, отримано у кремнії p-типу для головних кристалографічних орієнтацій X ║ [100], X ║ [110], X ║ [111]. Стрімке зменшення поздовжнього ТР ефекту в p-Si зі збільшенням тиску пов'язано із зменшенням поздовжньої ефективної маси важких дірок і відповідним збільшенням їх рухливості при зростанні X. У кремнії n-типу зі збільшенням одновісного тиску X ║ [100] відбувається повне усунення f-переходів з міждолинного розсіювання при великому енергетичному розщепленні однотипних ∆1-долин (∆ε > 10 кТ), що веде до зростання при цьому рухливості електронів у температурному інтервалі 78–300 К. На величину  рухливості електронів у цьому температурному інтервалі зміна g-переходів при розщепленні однотипних ∆1 долин не впливає. Крім того, наведено технологічні розробки, які використовує фірма “Intel Corporation” при виробництві інтегральних мікросхем з одновісно-деформованими каналами МОН транзисторів.

Посилання

S. Thompson, N. Anand, M. Armstrong et al., IEDM Tech. Dig. 61 (2002).

T. Ghana et al., IEDM Tech. Dig. 978 (2003).

V.N. Ermakov, A.V. Fedosov, V.V. Kolomoets, and A.E. Gorin, Nov. Tekhnol. 20, 48 (2008).

G.L. Bir and G.E. Pikus, Symmetry and Deformation Effects in Semiconductors (Nauka, Moscow, 1972) (in Russian).

P.I. Baranskii, I.V. Dakhovskii, V.V. Kolomoets, and A.V. Fedosov, Fiz. Tekhn. Polupr. 10, 1480 (1976).

S.I. Budzulyak, A.E. Gorin, V.M. Ermakov et al., Phys. Stat. Sol. (b) 223, 519 (2001).

https://doi.org/10.1002/1521-3951(200101)223:2<519::AID-PSSB519>3.0.CO;2-I

M.A. Paalanen, T.F. Rosenbaum, G.A. Thomas, and R.N. Bhatt, Phys. Rev. Lett. 48, 1284 (1982).

https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.48.1284

C. Urban, C. Sandow, Q.T. Zhao, and S. Mantl, in X Intern. Conf. on Ultimate Integration of Silicon, Aachen, Germany (2009), p. 65.

V.V. Kolomoets, B.A. Sus', V.N. Ermakov, and V.E. Rodionov, Patent for invention N2040785, Russia (1995).

C.S. Smith, Phys. Rev. 94, 42 (1954). https://doi.org/10.1103/PhysRev.94.42

Опубліковано

2022-02-08

Як цитувати

Горін, А., Громова, Г., Єрмаков, В., Когутюк, П., Коломоєць, В., Назарчук, П., Панасюк, Л., & Федосов, С. (2022). Кремнієві р-МОН та n-МОН транзистори з одновісно деформованими каналами у нанотехнології електронних приладів. Український фізичний журнал, 56(9), 917. https://doi.org/10.15407/ujpe56.9.917

Номер

Розділ

Тверде тіло