Вплив активних обробок на фотоелектричні характеристики структур на основі плівок CdTe

Автор(и)

  • М.І. Клюй Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України
  • В.П. Костильов Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України
  • А.М. Лук’янов Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України
  • А.В. Макаров Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України
  • В.В. Черненко Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України
  • Г.С. Хрипунов Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут"
  • Н.М. Харченко Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут"
  • А.В. Меріуц Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут"
  • Т.М. Шелест Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут"
  • Т.А. Лі Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут"
  • А.М. Клюй Київський національний університет імені Тараса Шевченка

DOI:

https://doi.org/10.15407/ujpe57.5.538

Ключові слова:

-

Анотація

Досліджено фотоелектричні характеристики структур ITO/CdTe, виготовлених методом термічного вакуумного випаровування та шляхом осадження у квазізамкненому об'ємі до та після різних обробок. Частина зразків проходила "хлоридну" обробку, інша – відпал на повітрі. Після цього проводилась обробка зразків у плазмі водню та нанесення на них тонкої алмазоподібної плівки. Показано, що проведення "хлоридної" обробки структур ІТО/CdTe приводить до збільшення дифузійної довжини носіїв заряду у шарі CdTe. Проведення термовідпалу не впливає на значення дифузійної довжини носіїв заряду у шарі CdTe, але значно підвищує фоточутливість, що свідчить про зменшення на поверхні шару CdTe швидкості поверхневої рекомбінації. Шляхом комбінації термовідпалу, "хлоридної" обробки, плазмової обробки у водні та нанесення тонких алмазоподібних плівок отримано збільшення довжини дифузії носіїв заряду у шарі CdTe в усіх досліджуваних структурах ІТО/CdTe. На структурах ІТО/CdTe, отриманих термічним вакуумним випаровуванням, обробка у плазмі водню приводила до значного збільшення спектральної чутливості у діапазоні довжин хвиль 400–800 нм, а на структурах, які пройшли "хлоридну" обробку, значне збільшення спектральної чутливості досягалось після обробки у плазмі водню нанесення алмазоподібних плівок.

Посилання

F.P.J.M. Kerkhof and J.A. Moulijn, J. Phys. Chem. 83, 1612 (1979).

https://doi.org/10.1021/j100475a011

G. Khrypunov, A. Romeo, F. Kurdesau, D.L. Bätzner, H. Zogg, and A.N. Tiwari, Solar Energy Mater. Solar Cells 90, 664 (2006).

https://doi.org/10.1016/j.solmat.2005.04.003

X. Mathew, J.P. Enriquez, A. Romeo, and A.N. Tiwari, Solar Energy 77, 831 (2004).

https://doi.org/10.1016/j.solener.2004.06.020

J. Perrenoud, S. Buecheler, and A.N. Tiwari, in Proceedings of the 34-th IEEE Photovoltaic Specialists Conference, 2009, p. 695.

A. Romeo, G. Khrypunov, F. Kurdesau, M. Arnold, D.L. Bätzner, H. Zogg, and A.N. Tiwari, Solar Energy Mater. Solar Cells 90, 3407 (2006).

https://doi.org/10.1016/j.solmat.2005.09.020

A.N. Tiwari, G. Khrypunov, F. Kurdesau, D.L. Bätzner, A. Romeo, and H. Zogg, Prog. Photovolt. Res. Appl. 12, 33 (2004).

https://doi.org/10.1002/pip.525

A. Romeo, S. Buecheler, M. Giarola, G. Mariotto, A.N. Tiwari, N. Romeo, A. Bosio, and S. Mazzamuto, Thin Solid Films 517, 2132 (2009).

https://doi.org/10.1016/j.tsf.2008.10.129

M. Hädrich, C. Kraft, C. Löffler, H. Metzner, U. Reislöhner, and W. Witthuhn, Thin Solid Films 517, 2282 (2009).

https://doi.org/10.1016/j.tsf.2008.10.105

B.E. McCanddless and R.W. Birkmire, Solar Cells 31, 527 (1991).

https://doi.org/10.1016/0379-6787(91)90095-7

S.S. Hegedus, and B.E. McCandless, Solar Energy Mater. Solar Cells 88, 75 (2005).

https://doi.org/10.1016/j.solmat.2004.10.010

B.T. Boiko, G.S. Khripunov, N.M. Kharchenko, and N.A. Kovtun, in Proceedings of the 5-th International Conference on Nonlinear Processes and Self-Organization Problems in Modern Materials Science, Voronezh, 2004, V. 1, p. 97 (in Russian).

G.S. Khripunov, Fiz. Tekh. Poluprov. 39, 1266 (2005).

B.T. Boiko, N.M. Kharchenko, and G.S. Khripunov, in Proceedings of the 10-th International Conference on Physics and Technology of Thin Films, Ivano-Frankivsk, 2005, V. 1, p. 170 (in Ukrainian).

Опубліковано

2012-05-30

Як цитувати

Клюй, М., Костильов, В., Лук’янов, А., Макаров, А., Черненко, В., Хрипунов, Г., Харченко, Н., Меріуц, А., Шелест, Т., Лі, Т., & Клюй, А. (2012). Вплив активних обробок на фотоелектричні характеристики структур на основі плівок CdTe. Український фізичний журнал, 57(5), 538. https://doi.org/10.15407/ujpe57.5.538

Номер

Розділ

Тверде тіло

Статті цього автора (авторів), які найбільше читають