Фундаментальні обмеження для довжини каналу провідності MOSFET з урахуванням реального вигляду бар’єрного потенціалу

Автор(и)

  • M.V. Strikha Taras Shevchenko National University of Kyiv, Faculty of Radiophysics, Electronics, and Computer Systems
  • A.I. Kurchak V.E. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine

DOI:

https://doi.org/10.15407/ujpe66.7.625

Ключові слова:

транзистор метал–дiелектрик–напiвпровiдник, мiнiмальна довжина каналу, тунелювання крiзь бар’єр

Анотація

В статтi оцiнено мiнiмальну довжину каналу транзистора MOSFET, який є основним пристроєм сучасної електронiки. Врахування реального вигляду потенцiалу в каналi показує, що за наявностi напруги на стоку електрон тунелює крiзь область, суттєво коротшу вiд фiзичної довжини каналу L, i тому наявна в лiтературi оцiнка мiнiмальної зумовленої квантовими обмеженнями довжини каналу в кремнiєвому MOSFET Lmin ≈ 1,2 нм є суттєво заниженою. Звiдси зрозумiло, чому пiсля досягнення робочих довжин каналу в 5 нм так i не вдалося вийти на вже давно декларованi значення в 3 нм при збереженнi належного рiвня функцiональностi роботи транзистора. Зробленi в нашiй роботi оцiнки пiдтверджують: фундаментальних меж масштабування кремнiєвих MOSFET вже майже досягнуто.

Посилання

M. Lundstrom. Fundamentals of Nanotransistors (World Scientific, 2018). https://doi.org/10.1142/9018

B. Doris, O. Dokumaci, M. Ieong, A. Mocuta, Y. Zhang, T.S. Kanarsky. Extreme scaling with ultra-thin Si channel MOSFETs. Digest Int. Electron Dev. Meet. 267 (2002).

H. Wakabayashi, S. Yamagami, N. Ikezawa, A. Ogura, M. Narihiro. Sub-10-nm Planar-Bulk-CMOS devices using lateral junction control. IEEE Int. J. Electron Dev. Meet. 989 (2003).

Yu.O. Kruglyak, M.V. Strikha. Physics of nanotransistors: 2D electrostatics of MOS and virtual drain model. Sensorna elektronika i mikrosystemni tekhnolohii 16, 19 (2019) (in Ukrainian). https://doi.org/10.18524/1815-7459.2019.3.179347

R. Landauer. Irreversibility and heat generation in the computing process. IBM J. Res. Develop. 5, 183 (1961). https://doi.org/10.1147/rd.53.0183

J.D. Meindl, J.A. Davis. The fundamental limit on binary switching energy for terascale integration (TSI). IEEE J. Solid State Circuits 35, 1515 (2000). https://doi.org/10.1109/4.871332

A.S. Davydov. Quantum Mechanics (Pergamon Press, 1976).

Yu.O. Kruglyak, M.V. Strikha. Physics of nanotransistors: Gate voltage, surface potential, and moving electron charge in a massive MOS structure and in a thin SOI. Sensorna elektronika i mikrosystemni tekhnolohii 16, 5 (2019) (in Ukrainian). https://doi.org/10.18524/1815-7459.2019.2.171224

Yu.O. Kruglyak, M.V. Strikha. Nanotransistor physics: Landauer-Datta-Lundstrom transport model and ballistic MOSFET. Sensorna elektronika i mikrosystemni tekhnolohii 16, 5 (2019) (in Ukrainian).

Yu.O. Kruglyak, M.V. Strikha. Physics of nanotransistors: Electron scattering and MOSFET passage model. Sensorna elektronika i mikrosystemni tekhnolohii 17, 16 (2020) (in Ukrainian). https://doi.org/10.18524/1815-7459.2020.2.205822

A. Majumdar, D.A. Antoniadis. Analysis of carrier transport in short-channel MOSFETs. IEEE Trans. Electron Dev. 61, 351 (2014). https://doi.org/10.1109/TED.2013.2294380

A.D. Franklin, M. Luisier, Shu-Jen Han, G. Tulevski, C.M. Breslin, L. Gignac, M.S. Lundstrom, W. Haensch. Sub-10 nm carbon nanotube transistor. Nano Lett. 12, 758 (2012). https://doi.org/10.1021/nl203701g

R. Mehrotra, Sung Geun Kim, T. Kubis, M. Povolotskyi, M.S. Lundstrom, G. Klimeck. Engineering Nanowire n-MOSFETs at Lg < 8 nm. IEEE Trans. Electron Dev. 60, 2171 (2013). https://doi.org/10.1109/TED.2013.2263806

Опубліковано

2021-08-04

Як цитувати

Strikha, M., & Kurchak, A. (2021). Фундаментальні обмеження для довжини каналу провідності MOSFET з урахуванням реального вигляду бар’єрного потенціалу. Український фізичний журнал, 66(7), 625. https://doi.org/10.15407/ujpe66.7.625

Номер

Розділ

Напівпровідники і діелектрики

Статті цього автора (авторів), які найбільше читають