Залежність оптичних властивостей тонких е-лектрохромних плівок оксиду нікелю від потужності напилення
DOI:
https://doi.org/10.15407/ujpe65.11.973Ключові слова:
electrochromic, nickel oxide, DC magnetron sputteringАнотація
Дослiджено процес виготовлення i параметри тонких плiвок NiO для застосування в електрохромних смарт-вiкнах. Плiвки зробленi методом магнетронного напилення з постiйним струмом iз використанням мiшенi з чистого нiкелю. Потужнiсть напилення змiнювалась у межах 50–200 Вт. Кристалiчна структура та морфологiя плiвок NiO визначенi методами дифракцiї рентгенiвських променiв (ДРП) i сканувальної електронної мiкроскопiї (СЕМ), вiдповiдно. Результати ДРП показують кращий рiст полiкристалiчних плiвок в площинах (111) i (200). Крiм того, електрохромнi властивостi тонких плiвок NiO вивчались за допомогою
спектрофотометра ультрафiолетового та видимого дiапазону. Забарвлений стан електрохромної комiрки отримано
введенням iонiв з концентрацiєю 0,1 M KOH при змiщеннi 1 В. Оборотнiсть переходiв мiж забарвленим i безбарвним станами пiдтверджено за допомогою коефiцiєнта пропускання. Знайдено, що величина оптичного контрасту досягає 28,68.
Посилання
H.N. Cui, M.F. Costa, V. Teixeira, I. Porqueras, E. Bertran. Electrochromic coatings for smart windows. Surf. Sci.
-535, 1127 (2003).
E.L. Runnerstrom, A. Llorde, S.D. Lounisac, D.J. Milliron. Nanostructured electrochromic smart windows: Traditional materials and NIR-selective plasmonic nanocrystals. Chem. Commun. 50, 10555 (2014). https://doi.org/10.1039/C4CC03109A
W. Cheng, M. Moreno-Gonzalez, K. Hu, C. Krzyszkowski, D.J. Dvorak, D.M. Weekes, B. Tam, C.P. Berlinguette. Solution-deposited solid-state electrochromic windows. Science 10, 80 (2018). https://doi.org/10.1016/j.isci.2018.11.014
M. Da Rocha, A. Rougier. Electrochromism of non-stoichiometric NiO thin film: as single layer and in full device. Appl. Phys. A 122, 1 (2016). https://doi.org/10.1007/s00339-016-9923-z
M.P. Browne, H. Nolan, N.C. Berner, G.S. Duesberg, P.E. Colavita, M.E.G. Lyons. Electrochromic nickel oxide films for smart window applications. Int. J. Electrochem. Sci. 11, 6636 (2016). https://doi.org/10.20964/2016.08.38
H. Huang, J. Tian, W.K. Zhang, Y.P. Gan, X.Y. Tao, X.H. Xia, J.P. Tu. Electrochromic properties of porous NiO thin film as a counter electrode for NiO/WO3 complementary electrochromic window. Electrochim. Acta. 56, 4281 (2011). https://doi.org/10.1016/j.electacta.2011.01.078
Q. Liu, Q. Chen, Q. Zhang, Y. Xiao, X. Zhong, G. Dong, M.P. Delplancke-Ogletre, H. Terryn, K. Baert, F. Reniers, X. Diao. In-situ electrochromic efficiency of nickel oxide thin film: Origin of electrochemical process and electrochromic degradation. J. Mater. Chem. C 6, 646 (2017). https://doi.org/10.1039/C7TC04696K
D. R. Sahu, T.J. Wu, S.C. Wang, J.L. Huang. Electrochromic behavior of NiO film prepared by e-beam evaporation. J. Sci.: Advanced Materials and Devices 2, 225 (2017). https://doi.org/10.1016/j.jsamd.2017.05.001
F. Ozutok, S. Demiri, E. Ozbek. Electrochromic NiO thin films prepared by spin coating. AIP Conf. Proc. 1815, 050011 (2017). https://doi.org/10.1063/1.4976389
M. Guziewicz, J. Grochowski, M. Borysiewicz, E. Kaminska, J.Z. Domagala, W. Rzodkiewicz, B.S. Witkowski, K. Golaszewska, R. Kruszka, M. Ekielski, A. Piotrowska. Electrical and optical properties of NiO films deposited by magnetron sputtering. Opt. Appl. 41, 431 (2011).
K.M. Nair, S. Priya. Advances and Applications in Electroceramics II: Ceramic Transactions (Wiley, 2012), Vol. 235 https://doi.org/10.1002/9781118511350 [ISBN: 9781118273357].
D.J. Kwak, M.W. Park, Y.M. Sung. Discharge power dependence of structural and electrical properties of Al-doped ZnO conducting film by magnetron sputtering (for PDP). Vacuum 83, 113 (2009). https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2008.03.099
A. Chaoumead, Y. Sung, D.J. Kwak. The effects of RF sputtering power and gas pressure on structural and electrical properties of ITO thin film. Adv. Cond. Matter Phys. 2012, 1 (2012). https://doi.org/10.1155/2012/651587
K.S. Dijith, R. Aiswarya, M. Praveen, S. Pillai, K.P. Surendran. Polyol derived Ni and NiFe alloys for effective shielding of electromagnetic interference. Mater. Chem. Front. 2, 1829 (2018). https://doi.org/10.1039/C8QM00264A
K. Yoshimura, T. Miki, S. Tanemura. Nickel oxide electrochromic thin films prepared by reactive DC magnetron sputtering. Jpn. J. Appl. Phys. 34, 2440 (1995). https://doi.org/10.1143/JJAP.34.2440
Downloads
Опубліковано
Як цитувати
Номер
Розділ
Ліцензія
Ліцензійний Договір
на використання Твору
м. Київ, Україна
Відповідальний автор та співавтори (надалі іменовані як Автор(и)) статті, яку він (вони) подають до Українського фізичного журналу, (надалі іменована як Твір) з одного боку та Інститут теоретичної фізики імені М.М. Боголюбова НАН України в особі директора (надалі – Видавець) з іншого боку уклали даний Договір про таке:
1. Предмет договору.
Автор(и) надає(ють) Видавцю безоплатно невиключні права на використання Твору (наукового, технічного або іншого характеру) на умовах, визначених цим Договором.
2. Способи використання Твору.
2.1. Автор(и) надає(ють) Видавцю право на використання Твору таким чином:
2.1.1. Використовувати Твір шляхом його видання в Українському фізичному журналі (далі – Видання) мовою оригіналу та в перекладі на англійську (погоджений Автором(ами) і Видавцем примірник Твору, прийнятого до друку, є невід’ємною частиною Ліцензійного договору).
2.1.2. Переробляти, адаптувати або іншим чином змінювати Твір за погодженням з Автором(ами).
2.1.3. Перекладати Твір у випадку, коли Твір викладений іншою мовою, ніж мова, якою передбачена публікація у Виданні.
2.2. Якщо Автор(и) виявить(лять) бажання використовувати Твір в інший спосіб, як то публікувати перекладену версію Твору (окрім випадку, зазначеного в п. 2.1.3 цього Договору); розміщувати повністю або частково в мережі Інтернет; публікувати Твір в інших, у тому числі іноземних, виданнях; включати Твір як складову частину інших збірників, антологій, енциклопедій тощо, то Автор(и) мають отримати на це письмовий дозвіл від Видавця.
3. Територія використання.
Автор(и) надає(ють) Видавцю право на використання Твору способами, зазначеними у п.п. 2.1.1–2.1.3 цього Договору, на території України, а також право на розповсюдження Твору як невід’ємної складової частини Видання на території України та інших країн шляхом передплати, продажу та безоплатної передачі третій стороні.
4. Строк, на який надаються права.
4.1. Договір є чинним з дати підписання та діє протягом усього часу функціонування Видання.
5. Застереження.
5.1. Автор(и) заявляє(ють), що:
– він/вона є автором (співавтором) Твору;
– авторські права на даний Твір не передані іншій стороні;
– даний Твір не був раніше опублікований і не буде опублікований у будь-якому іншому виданні до публікації його Видавцем (див. також п. 2.2);
– Автор(и) не порушив(ли) права інтелектуальної власності інших осіб. Якщо у Творі наведені матеріали інших осіб за виключенням випадків цитування в обсязі, виправданому науковим, інформаційним або критичним характером Твору, використання таких матеріалів здійснене Автором(ами) з дотриманням норм міжнародного законодавства і законодавства України.
6. Реквізити і підписи сторін.
Видавець: Інститут теоретичної фізики імені М.М. Боголюбова НАН України.
Адреса: м. Київ, вул. Метрологічна 14-б.
Автор: Електронний підпис від імені та за погодження всіх співавторів.
.png){kind=small}
