Вплив відпалу на інтенсивність термолюмінесценції KY3F10 : Ho3+
DOI:
https://doi.org/10.15407/ujpe65.2.174Ключові слова:
thermoluminescence, thermal annealing, variable heating rate method, activation energyАнотація
Дослiджено вплив вiдпалу на кривi свiтiння пiд час термолюмiнесценцiї сполуки KY3F10:Ho3+ промислового виробництва, i проведено порiвняння з результатами для невiдпаленого зразка. Вiдпал проводився при температурах 400, 500 i 600 ∘C. Розраховано один з кiнетичних параметрiв термолюмiнесценцiї, енергiя активацiї (глибина пастки), для вiдпаленого i невiдпаленого зразкiв, з використанням методу змiнної швидкостi нагрiву. Результати показали, що вiдпал впливає на iнтенсивнiсть свiтiння при термолюмiнесценцiї. З ростом температури вiдпалу максимуми кривих термолюмiнесценцiї змiщуються в бiк бiльш високих тем-
ператур. Чим вища температура вiдпалу, тим нижче поло-
ження рiвня пастки вiдносно краю зони провiдностi. Рент-
генографiя показує наявнiсть моноклiнної структури з па-
раметрами елементарної комiрки (в ˚ A) a = 10,41, b = 6,73,
c = 12,46, вiдповiдними JCPDS мапi No. 21-1458.
Посилання
F.O. Ogundare, L.A. Hussain, F.A. Balogun. Heating rate effects on the thermoluminescence of fluorite. Radiat. Meas. 40, 60 (2012). https://doi.org/10.1016/j.radmeas.2005.01.004
N.G. Debelo, F.B. Dejene, K.T. Roro. Thermally stimulated luminescence of Y2SiO5 :Ce3+. Int. J. Thermophys. 37, 69 (2016). https://doi.org/10.1007/s10765-016-2081-x
Vo Van Hoang. Heating rate effects in simulated liquid Al2O3. Eur. Phys. J. Appl. Phys. 33, 69 (2006). ttps://doi.org/10.1051/epjap:2005084
Y. Parganiha, V. Dubey, J. Kaur, R. Shrivastava. YAlO3 :Ce3+ powders: Synthesis, characterization, thermoluminescence and optical studies. Superlattices Microstruct. 77, 152 (2015). https://doi.org/10.1016/j.spmi.2014.11.010
N. Gemechu, T. Abebe. Structural characterization and thickness profile of pulsed laser-deposited KY3F10 :Ho3+ thin films pulsed laser deposition of thin films. Ukr. J. Phys 63, 182 (2018). https://doi.org/10.15407/ujpe63.2.182
J. Manam, S. Isaac. Preparation, characterization and thermally stimulated luminescence of ZnO nanophosphor. Ind. J. Phys. 83, 1407(2009). https://doi.org/10.1007/s12648-009-0129-5
J. Chandler, S. Sholom, S. McKeever, H. Hall. Thermoluminescence and phototransferred thermoluminescence dosimetry on mobile phone protective touch screen glass. J. Appl. Phys. 126, 074901 (2019). https://doi.org/10.1063/1.5108971
N. Debelo, T. Senbeta, B. Mesfin, F. Dejene. Synthesis and luminescence properties of Ca3Y2(Si3O9)2 : xCe3+ nanophosphor. J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 28, 1 (2017). https://doi.org/10.1007/s10854-017-7105-1
V. Dubey, J. Kaur, S. Agrawal, N. Suryanarayana, K. Murthy. Effect of Eu3+ concentration on photoluminescence and thermoluminescence behavior of YBO3 :Eu3+ phosphor. Superlattices Microstruct. 67, 156 (2014). https://doi.org/10.1016/j.spmi.2013.12.026
C.R. Ronda. Luminescence from Theory to Applications (Wiley, 2007) [ISBN: 978-3-527-31402-7]. https://doi.org/10.1002/9783527621064
N.G. Debelo, F.B. Dejene, K.T. Roro. Pulsed laser deposited KY3F10 :Ho3+ thin films: Influence of target to substrate distance. Mater. Chem. Phys. 190, 62 (2017).
P. Seth. S. Aggarwal, S. Rao. Thermoluminescence study of rare earth ion (Dy3+) doped LiF :Mg crystals grown by EFG technique. J. Rare Earth. 30, 241 (2012). https://doi.org/10.1016/S1002-0721(12)60105-7
J.M. Kalita, M.L. Chithambo. Photo transferred thermo-luminescence and thermally-assisted optically stimulated luminescence dosimetry using a-Al2O3 :C, Mg annealed at 1200 ∘C. J. Lumin. 205, 1 (2019). https://doi.org/10.1016/j.jlumin.2018.08.085
U. Pal. Thermoluminescence properties of ZnO and ZnO:Yb nanophosphors. Appl. Phys. Lett. 89, 183118 (2006). ttps://doi.org/10.1063/1.2374866
N. Debelo, F. Dejene, K. Roro, T. Senbeta, B. Mesfin, T. Abebe, L. Mostert. Enhanced emission and improved crystallinity of KY3F10 :Ho3+ thin films grown at high deposition temperature using pulsed laser deposition technique. J. Electron. Mater. 47, 2617 (2018). https://doi.org/10.1007/s11664-018-6089-9
Downloads
Опубліковано
Як цитувати
Номер
Розділ
Ліцензія
Ліцензійний Договір
на використання Твору
м. Київ, Україна
Відповідальний автор та співавтори (надалі іменовані як Автор(и)) статті, яку він (вони) подають до Українського фізичного журналу, (надалі іменована як Твір) з одного боку та Інститут теоретичної фізики імені М.М. Боголюбова НАН України в особі директора (надалі – Видавець) з іншого боку уклали даний Договір про таке:
1. Предмет договору.
Автор(и) надає(ють) Видавцю безоплатно невиключні права на використання Твору (наукового, технічного або іншого характеру) на умовах, визначених цим Договором.
2. Способи використання Твору.
2.1. Автор(и) надає(ють) Видавцю право на використання Твору таким чином:
2.1.1. Використовувати Твір шляхом його видання в Українському фізичному журналі (далі – Видання) мовою оригіналу та в перекладі на англійську (погоджений Автором(ами) і Видавцем примірник Твору, прийнятого до друку, є невід’ємною частиною Ліцензійного договору).
2.1.2. Переробляти, адаптувати або іншим чином змінювати Твір за погодженням з Автором(ами).
2.1.3. Перекладати Твір у випадку, коли Твір викладений іншою мовою, ніж мова, якою передбачена публікація у Виданні.
2.2. Якщо Автор(и) виявить(лять) бажання використовувати Твір в інший спосіб, як то публікувати перекладену версію Твору (окрім випадку, зазначеного в п. 2.1.3 цього Договору); розміщувати повністю або частково в мережі Інтернет; публікувати Твір в інших, у тому числі іноземних, виданнях; включати Твір як складову частину інших збірників, антологій, енциклопедій тощо, то Автор(и) мають отримати на це письмовий дозвіл від Видавця.
3. Територія використання.
Автор(и) надає(ють) Видавцю право на використання Твору способами, зазначеними у п.п. 2.1.1–2.1.3 цього Договору, на території України, а також право на розповсюдження Твору як невід’ємної складової частини Видання на території України та інших країн шляхом передплати, продажу та безоплатної передачі третій стороні.
4. Строк, на який надаються права.
4.1. Договір є чинним з дати підписання та діє протягом усього часу функціонування Видання.
5. Застереження.
5.1. Автор(и) заявляє(ють), що:
– він/вона є автором (співавтором) Твору;
– авторські права на даний Твір не передані іншій стороні;
– даний Твір не був раніше опублікований і не буде опублікований у будь-якому іншому виданні до публікації його Видавцем (див. також п. 2.2);
– Автор(и) не порушив(ли) права інтелектуальної власності інших осіб. Якщо у Творі наведені матеріали інших осіб за виключенням випадків цитування в обсязі, виправданому науковим, інформаційним або критичним характером Твору, використання таких матеріалів здійснене Автором(ами) з дотриманням норм міжнародного законодавства і законодавства України.
6. Реквізити і підписи сторін.
Видавець: Інститут теоретичної фізики імені М.М. Боголюбова НАН України.
Адреса: м. Київ, вул. Метрологічна 14-б.
Автор: Електронний підпис від імені та за погодження всіх співавторів.
.png){kind=small}
