Спектроскопiчнi дослiдження плазми високочастотного розряду при плазмохiмiчному травленнi епiтаксiальних структур нiтриду галiю

Автор(и)

  • V. V. Hladkovskiy Institute for Nuclear Research, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine
  • O. A. Fedorovich Institute for Nuclear Research, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine

DOI:

https://doi.org/10.15407/ujpe62.03.0208

Ключові слова:

bias voltage, plasma-chemical etching, sputtering, plasma-chemical reactor, radio-frequency discharge, optical spectroscopy

Анотація

Приведено результати експериментальних дослiджень впливу напруги змiщення на еволюцiю спектрiв випромiнювання плазми при травленнi нiтриду галiю в плазмохiмiчному реакторi (ПХР) з керованими магнiтними полями. При значеннях напруги змiщення бiльших за –250 В на спектрах випромiнювання плазми з’являються лiнiї, що належать збудженим атомам матерiалiв, з яких виготовлений робочий електрод. Пiд впливом вiд’ємного потенцiалу проходить розпилення активного електрода i переосадження iонiв металу на поверхню зразка, який обробляється, що приводить до зменшення швидкостi травлення.

Downloads

Опубліковано

2018-12-16

Як цитувати

Hladkovskiy, V. V., & Fedorovich, O. A. (2018). Спектроскопiчнi дослiдження плазми високочастотного розряду при плазмохiмiчному травленнi епiтаксiальних структур нiтриду галiю. Український фізичний журнал, 62(3), 208. https://doi.org/10.15407/ujpe62.03.0208

Номер

Розділ

Плазма і гази

Статті цього автора (авторів), які найбільше читають