Провiднiсть графену на сегнетоелектрику PVDF-TrFE

Автор(и)

  • A. I. Kurchak V.E. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine
  • M. V. Strikha V.E. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine

DOI:

https://doi.org/10.15407/ujpe59.06.0622

Ключові слова:

провiднiсть графену, сегнетоелектрик PVDF-TrFE, метод осаджування з парової фази

Анотація

Побудовано теорiю провiдностi графену, вирощеного методом осаджування з парової фази (CVD), на плiвцi сегнетоелектрика полiвiнiледен флюорид трифлуороетилен (PVDF-TrFE) з урахуванням розсiяння носiїв на великомасштабних неоднорiдностях потенцiалу, зумовлених як наявнiстю доменної структури сегнетоелектрика, так i неоднорiдностями розподiлу хiмiчних допантiв на поверхнi графену. Показано, що зi збiльшенням кореляцiйної довжини, яка описує неоднорiдностi, питомий опiр зменшується, i для випадку достатньо однорiдного розподiлу хiмiчних домiшок i достатньо великих розмiрiв доменiв може становити 100 Ом i менше. Такi значення роблять систему “графен на PVDF-TrFE” конкурентною щодо стандартних провiдних прозорих ITO (iндiй–оксид олова) покриттiв для фотовольтаїки. Проведено порiвняння результатiв теоретичного опису з експериментальними даними.

Посилання

M.V. Strikha, Ukr. Fiz. Zh. Oglyady 7, 31 (2012).

M.V. Strikha, Ukr. J. Phys. Opt. 13, Suppl. 3, S5 (2012).

https://doi.org/10.3116/16091833/13/1/S5/2012

X. Hong, K. Zou, A.M. DaSilva, C.H. Ahn, and J. Zhu, Solid State Commun. 132, 1365 (2012).

https://doi.org/10.1016/j.ssc.2012.04.050

Y. Zheng, G.-X. Ni, C.-T. Toh et al., Appl. Phys. Lett. 94, 163505 (2009).

https://doi.org/10.1063/1.3119215

Y. Zheng, G.-X. Ni, C.-T. Toh et al., Phys. Rev. Lett. 105, 166602 (2010).

https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.105.166602

S. Raghavan, I. Stolichnov, N. Setter et al., Appl. Phys. Lett. 100, 023507 (2012).

https://doi.org/10.1063/1.3676055

X. Hong, J. Hoffman, A. Posadas et al., Appl. Phys. Lett. 97, 033114 (2010).

https://doi.org/10.1063/1.3467450

Y. Zheng, G.-X. Ni, S. Bae et al., Europhys. Lett. 93, 17002 (2011).

https://doi.org/10.1209/0295-5075/93/17002

E.B. Song, B. Lian, S.M. Kim et al., Appl. Phys. Lett. 99, 042109 (2011).

https://doi.org/10.1063/1.3619816

M.V. Strikha, Ukr. J. Phys. Opt. 12, 162 (2011).

https://doi.org/10.3116/16091833/12/4/161/2011

M.V. Strikha, Ukr. J. Phys. Opt. 13, 45 (2012).

https://doi.org/10.3116/16091833/13/1/45/2012

G.-X. Ni, Y. Zheng, S. Bae, C.Y. Tan, O. Kahya, J. Wu, B.H. Hong, K. Yao, and B. Ozyilmaz, ACS NANO 6, 3935 (2012).

https://doi.org/10.1021/nn3010137

R.R. Nair, P. Blake, A.N. Grigorenko, K.S. Novoselov, T.J. Brooth, T. Stauber, N.M.R. Peres, and A.K. Geim, Science 320, 5881 (2008).

https://doi.org/10.1126/science.1156965

F.T. Vasko and V. Ryzhii, Phys. Rev. B 76, 233404 (2007).

https://doi.org/10.1103/PhysRevB.76.233404

S. Das Sarma, S. Adam, E.H. Hwang, and E. Rossi, Rev. Mod. Phys. 83, 407 (2011).

https://doi.org/10.1103/RevModPhys.83.407

V. Fridkin and S. Ducharme, Ferroelectricity at the Nanoscale. Basics and Applications (Springer, Berlin, 2014).

https://doi.org/10.1007/978-3-642-41007-9

J. Heo, H.C. Chung, S.-H. Lee et al., Phys. Rev. B 84, 035421 (2011).

https://doi.org/10.1103/PhysRevB.84.035421

M.V. Strikha and F.T. Vasko, J. Phys.: Condens. Matter 9, 663 (1997).

https://doi.org/10.1088/0953-8984/9/3/006

Yu.A. Kruglyak, N.Yu. Kruglyak, and M.V. Strikha, Sensorn. Elektr. Mikrosist. Tekhnol. 3, No. 4, 5 (2012).

B. Guo, L. Fang, B. Zhang, and J.R. Gong, Insciences J. 1, 80 (2011).

Опубліковано

2018-10-23

Як цитувати

Kurchak, A. I., & Strikha, M. V. (2018). Провiднiсть графену на сегнетоелектрику PVDF-TrFE. Український фізичний журнал, 59(6), 622. https://doi.org/10.15407/ujpe59.06.0622

Номер

Розділ

Тверде тіло

Статті цього автора (авторів), які найбільше читають