«Дифузія атома кисню у приповерхневі шари інтерфейсу GexSi1-x/Si(001)». Український фізичний журнал 56, no. 4 (Лютий 14, 2022): 352. дата звернення Вересень 11, 2026. https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2022103.